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物理验证平台 EssePV

EssePV是一款针对现代计算机系统架构及TB级大规模芯片设计平台的创新产品。它采用分布式计算架构,集成了高性能统一数据底座,并配备了高效率几何图形计算引擎等尖端技术。这些技术的运用使得EssePV能够实现超大规模版图数据的快速加载与可视化以及高速并行处理。它在复杂几何图形及先进工艺规则方面提供了高精度的解决方案,可以支持大规模版图数据的十倍级压缩,并实现秒级的验证。这一特性使得EssePV能够显著缩短芯片物理验证周期,并有效提升产品流片前的版图验证速度。
物理验证平台

EsseDBScope

EsseFill

EsseColoring

EsseDiff

EsseDRC

产品简介

版图集成工具EsseDBScope,提供了TB级版图数据的快速加载及快速查看能力,🈴 同时集成版图查询、定位、测量、标记、缩放等功能,支持快速Net Tracing、PG FindShort、IP Merge、Metal Density、LVL、Boolean等数据分析处理,是一个高效易用的版图集成平台。

EsseDBScope基于独创的数据压缩算法,支持数据Hierarchy存储,可实现大规模版图数据的秒开。同时提供强大易用的script引擎,可实现软件功能的灵活定制;自研Boolean Engine提供高效稳定的图形计算,为海量数据的处理分析提供有力支撑。

核心优势

  • 大规模版图数据快速加载及可视化;

  • 🍇 高效的内存利用率;

  • 灵活高效易用的script解决方案;

  • 快速强大的trace引擎;

  • 高效快速的Boolean Engine。



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产品功能

  • 版图数据的快速加载和可视化呈现;

  • 支持Net Tracing/Find Short;

  • 支持PG Find Short;

  • 支持GDS/OASIS Streamline IP Merge;

  • 支持版图比较(LVL/Xor);

  • 支持Full 🍆 Chip Boolean Operation;

  • 支持Metal Density及Heat Graph Overlay显示;

  • 支持软件Full Script Operator及replay;

  • 支持ruler测量、删除及自动吸附;

  • 支持Cell/Layer/Instance/Shape的编辑;

  • 版图快速绘制及渲染;

  • 支持DRC文件的输入及查看;

  • 支持版图信息统计;

  • 支持Clip Design;



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产品简介

基于cell的版图填充工具EsseFill,🎷 可为各类技术节点提供高填充能力、稳定和高速的工业级的全芯片版图填充解决方案,以应对半导体制造CMP工艺中的dishing效应、erosion效应等造成的工艺窗口萎缩以及带来的良率问题。

本产品基于高性能统一数据底座和分布式架构、集成高性能几何计算引擎、单层cell图形模型和多层cell图形模型等先进填充图形算法,能够高速处理超大规模版图数据,为复杂电路版图及先进工艺制造提供高性能的解决方案。

核心优势

  • 支持先进技术节点全版图图形填充;

  • 高性能统一数据底座;

  • 高性能几何图形引擎;

  • 业界领先分布式架构;

  • 提供单层及多层cell图形定义技术;

  • 高度可定制化的密度优化方程式。


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产品功能

  • 基于几何特征的图形定义;

  • 单层及多层的多个polygon平台化定义模型;

  • 精确的版图网格化密度优化模型;

  • 简洁有效的参数化填充区域约束语法方案;

  • 错位及局部旋转填充的高填充能力算法。


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应用方案

  • 🔋 基于统计模型的微型填充场景方案;

  • 基于规则的单图形填充场景;

  • 基于器件单元的cell填充场景;

  • 基于网格化模型的密度优化算法。




产品简介

版图拆分验证工具EsseColoring,可根据工艺规则将同一版图层次拆分成双重版图,并可验证拆分后的版图,🆘 是16nm及以下的先进工艺中的双重或多重曝光核心技术方案。

该产品基于PG电子分布式计算架构和集成高性能统一数据库、高性能几何图形计算引擎等先进模块,并且使用了内部DRC规则检查相同的数据结构和搜索算法,可快速验证超大规模的版图数据,加速产品的验证时间。


核心优势


  •  领先于业界的多机分布式运行模式;

  •  与DRC规则检查共用数据结构和验证算法;

  •  支持超大规模的版图数据;


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产品功能

  • 支持hier和flatten模式运行;

  • 支持跨机运行;

  • 支持将版图图层进行双重拆分;

  • 支持验证双重版图是否满足双重曝光相关的工艺规则。


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应用方案

  • 输入版图和工艺规则文件;

  • hier或flatten运行模式选择。


     




产品简介

版图区别验证工具EsseDiff,可为各类工艺节点提供稳定、🔺 准确和高速的版图区别验证技术解决方案,以应对芯片设计中的ECO版图改变验证,以及版图修改预期符合验证等需求。

该产品基于分布式计算架构和集成高性能统一数据库、高性能几何图形引擎等先进算法,可以高速处理超大规模版图数据,为复杂几何图形及先进工艺规则提供高精度的解决方案。

核心优势

  • 统一规则描述格式;

  • 领先业界的多机分布式运行模式;

  • 高CPU模式下的极限加速比远优于业界水平。



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产品功能

  • 支持hier和flatten模式运行;

  • 支持跨机运行;

  • 支持各种设计工艺的图形区别验证;

  • 支持自动LVL设计规则产生。


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应用方案

  • 任意两输入版图对比;

  • 层次化或扁平化运行选择;

  • 64cpu可显性能的极限加速比。




产品简介

设计规则检查工具EsseDRC,采用分布式计算架构、集成高性能统一数据底座、高效率几何图形计算引擎等关键技术,为复杂几何图形及先进工艺设计规则提供稳定、准确及高效的物理验证解决方案。其高性能的超大规模版图数据快速加载与高速并行处理能力,助力设计工程师迅速定位版图中存在的DRC问题,线性的缩短芯片物理验证周期,加速产品流片前的版图验证速度

核心优势

  • 独创的拓扑图形引擎

  • 统一规则🌍 描述格式;

  • 业界领先的分布式高并行引擎;

  • 平台通用的数据底座;



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产品功能

  • 支持各节点通用设计规则检查(DRC);

  • 支持跨机和集群管理系统模式下运行;

  • 自动生成DRC结果报告;

  • 集成至EsseDBScope,实现结果反标版图;


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应用方案

  • 支持各种工艺节点;

  • 🌻 超大规模的层次化版图处理;

  • 支持Partition切分加快并行运算速度。




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